参考价栻/p>5-10万元
型号
CMD2000品牌
IKN产地
德国样本
暂无能耗:
0-40处理量:
0-500L/H物料类型9/p>其它
工作原理9/p>立式
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纳米导电银浆研磨分散机,聚合物银导电浆料研磨分散机,烧结型银导电浆料研磨分散机,不锈钢研磨分散机,在线式纳米导电银浆研磨分散朹/span>+/span>为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行、/span>
银导电浆料分为两类:①聚合物银导电浆料(烘干或固化成膜,以有机聚合物作为粘接相);②烧结型银导电浆料(烧结成膜,烧结温度>500℃,玻璃粉或氧化物作为粘接相)。银粉照粒径分类,平均粒?lt;0.1μm(100nm)为纳米银粉; 0.1μm< Dav(平均粒径) 10.0μm为粗银粉。构成银导体浆料的三类别需要不同类别的银粉或组合作为导电填料,甚至每一类别中的不同配方需要不同的银粉作为导电功能材料,目的是在确定的配方或成膜工艺下,用zui少的银粉实现银导电性和导热性的zui大利用,关系到膜层性能的优化及成本、/span>
低温常温固化导电银胶主要应用:具有固化温度低,粘接强度极高、电性能稳定、适合丝网印刷等特点。适用于常温固化焊接场合的导电导热粘接,如石英晶体、红外热释电探测器、压电陶瓶/span>、电位器、闪光灯管以及屏蔽、电路修补等,也可用于无线电仪器仪表工业作导电粘接;也可以代替锡膏实现导电粘接、/span>
CMD2000研磨分散机有一定输送能力,对高固含量有一定粘稠度物料,CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质、/p>
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研磨分散朹/span>的特点:
更稳宙/span>采用优化设计理念,将先进的技术与创新的思维有效融合,并体现在具体的设备结构设计中,为设备稳定运行提供了保证.
新结枃/span>通过梳齿状定子切割破碎,缝隙疏密决定细度大小,超高线速度的吸料式叶轮提供超强切割力,纤维湿法研磨破碎可达400?
更可靟/span>采用整体式机械密封,zui大程度上解决了高速运转下的物料泄漏以及冷却介质污染等问题,安装与更换方便快捷.
新技?/span>采用国际先进的受控切割技术,将纤维类物料粉碎细度控制在设定范围之内,满足生产中的粗、细及超细湿法粉碎的要求.
CMD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品、/span>
**级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向、/p>
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用、/p>
研磨分散机的特点9/span>
1?nbsp;线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
2?nbsp;定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽、/p>
3?nbsp;定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
4?nbsp;在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向、/p>
5?nbsp;高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求、/p>
设备核心参数:
设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达?br/>电源选择?nbsp;380V/50HZ?20V/60HZ?40V/50HZ
电机选配仵/strong>?nbsp;PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材?/strong>:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓶br/>研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小?br/>研磨分散机表面处琅/strong>:抛光、耐磨处理
进出口联结形弎/strong>:法兰、螺口、夹箌br/>研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器
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CMD2000系列研磨分散机设备选型?/span>
型号 |
流量 L/H |
转逞/span> rpm |
线速度 m/s |
功率 kw |
?出口连接 DN |
CMD2000/4 |
300 |
9000 |
23 |
2.2 |
DN25/DN15 |
CMD2000/5 |
1000 |
6000 |
23 |
7.5 |
DN40/DN32 |
CMD2000/10 |
2000 |
4200 |
23 |
22 |
DN80/DN65 |
CMD2000/20 |
5000 |
2850 |
23 |
37 |
DN80/DN65 |
CMD2000/30 |
8000 |
1420 |
23 |
55 |
DN150/DN125 |
CMD2000/50 |
15000 |
1100 |
23 |
110 |
DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量皃/span>10%
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用优化设计理念,将先进的技术与创新的思维有效融合,并体现在具体的设备结构设计中,为设备稳定运行提供了保证.
亲水性OX50纳米二氧化硅分散液混合分散机,防火玻璃用纳米二氧化硅混合分散机,纳米二氧化硅防火玻璃分散液混合分散机,连续式纳米二氧化硅分散机,在线式纳米二氧化硅分散机,德国进口分散机,在线式分散机IK
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乳剂(Emulsion)是指互不相溶的两相液体,其中一相以小液滴状态分散于另一相液体中形成的非均匀分散的液体制剂。形成液滴的相称为分散相、内相或非连续相,另一相液体则称为分散介质、外相或连续盷/p>
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一种分散乳化一体机
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