参考价栻/p>面议
型号
刻蚀朹/span>品牌
大族半导佒/span>产地
广东样本
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主要参数 | 片盒数量 | 2CS&2LP |
配置 | 4 Etch unit | |
wafer 类型 | 圆片 | |
wafer 尺寸(mm(/td> | 50-300 | |
产能(WPH(/td> | 90 | |
化学药液 | H2O2、强酸碱 | |
衬底材料 | Si、Glass、Sapphire、GaN、GaAs、SiC、LiTaO3、Li3PO4 | |
适用工艺 | Wet Etch | |
干燥模式 | Spin Dry+N2 Dry |
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