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设备主要特点
采用先进的闭环控制系统,压力稳定无波?/p>
高精度温控系绞/p>
工艺薄膜均匀性优弁/p>
★支持SECS/GEM通讯
主要技术指栆/p>
适用硅片尺寸:4~6"
工作温度范围:350℃~800ℂ/p>
恒温长度:300-1100mm(可定?
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产品质量
售后服务
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性价毓/p>
红外气体传感 Gasboard-2060
XRD系列晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
红外快速退火炉系统
自动划片朹/p>