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溅镀系统
Description:
●专为研发和试运行而设讠/p>
◎/span>多功能性、操作简便性和长期可靠性,?/p>
◎/span>于单层和多层溅射
◎/span>可实?lt;+/-3%的均匀沉积
◎/span>溅射枪具有可变可变伸?阴极到基底的?的溅射枪和灵活的接头,实现可变入射角
◎/span>配备APC,可快速准确地实时控制溅射压力
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红外气体传感 Gasboard-2060
XRD系列晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
红外快速退火炉系统
自动划片朹/p>