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应用于宽禁带半导体器件、电力电子器件、光电子等行业氮化硅、多晶硅或氧化硅薄膜的制备;适用工艺有LPCVD、/span>
温度控制采用串级控制方式,对基片实际温度进行实时智能控制:/p>
装载采用SiC悬臂桨,避免了与工艺管摩擦产生粉尘、/p>
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红外气体传感 Gasboard-2060
XRD系列晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
红外快速退火炉系统
自动划片朹/p>