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设备主要用于高效晶硅体太阳能电池制造工艺中HJT电池片正面和背面IOT薄膜的沉积、/span>
膜块化设计,便于安装以及产能升级;
满足不同温度沉积ITO薄膜,工艺扩展性强;强控旋转阴极靶快速镀膜技术,靶材利用率高;
分区加热和控温,具有出色的控温系统和控温性能、/span>
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红外气体传感 Gasboard-2060
XRD系列晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
红外快速退火炉系统
自动划片朹/p>