非金属电热元件:
其他金属电热元件9/p>其他
烧结气氛9/p>其他
温控精度9/p>≤?mm
最高温度:
-额定温度9/p>-
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高温氧化炉是半导体器件加工中的典型热处理设备,用于集成电路、分立器件、太阳能光伏行业中进行氧化、退火、合金及烧结等工艺、/span>
高产能,单管产能可达1600?批;
温控系统性能出色,采用可预测型五段双回路智能温控系统以及新型炉体,控温精度和回温性能优异:/span>
全套倍福系统及总线控制方式,可靠性和信息化化性能优异:/span>
自动上下料系统,采用全自动上下料、在线式插取片对接系统,扩展了设备自动化程度,降低人工劳动强度,减少人工污染、/span>
产能 |
硅片尺寸 |
156×156mm方片 |
单管装片野/span> |
1600?批(槽间?.38mm(/span> |
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工艺类型 |
高温氧化、退火工艹/span> |
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温度控制系统 |
控温方式 |
5段双回路串级控制 |
控温范围 |
600℃~1100ℂ/span> |
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恒温区长度及精度 |
≤?.5?1600mm?01℃~1100℃) ≤??1600mm?00℃~800℃) |
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单点稳定?/span> |
±0.5?24h(静态,900? |
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炉体升降温速率 |
**升温20˚C/min?*降温5˚C/min |
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气路系统 |
流量控制方式 |
氮气、氧气流量由MFC控制;保护氮气由浮子流量计控刵/span> |
气体控制精度 |
±0.5%FS |
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送舟机构 |
水平推舟速率 |
1?00mm/min连续可调,定位精度≤±1mm |
垂直升降速率 |
8?2mm/min |
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石英舟进出方弎/span> |
软着陆、在线式(净化台侧出舟) |
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SiC?*承载 |
25Kg |
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控制系统 |
工艺监控方式 |
工业平板电脑全自动控制(触摸屏操作) |
自动控温功能 |
具有自动斜率升降温及恒温功能 |
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工艺历史记录功能 |
核心工艺参数(温度、压力、流量、功率、电流、淀积时间)?秒记录一次,其他过程?0秒记录一次、/span> |
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报警保护功能 |
设备具有工艺状态声光提醒,以及计算机异常、超温报警与欠温、MFC偏差、反应室压力偏差、极限超温报警和保护功能:/span> |
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其他参数 |
设备峰值功玆/span> |
280 KVA?管) |
保温功率 |
75 KVA?管) |
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设备柜体尺寸 |
7440mm(长)×2020mm(宽)?530(高(/span> |
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设备利用玆/span> |
?8% |
暂无数据