非金属电热元件：
其他金属电热元件９/p>其他
烧结气氛９/p>其他
温控精度９/p>±1ℂ/span>
最高温度：
1200ℂ/span>额定温度９/p>-
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CVD石墨烯生长炉专门针对于用在金属箔上生长薄膜物质，如石墨烯、使用时把金属箔附在内管上。其**工作温度可以达到1200℃，专门针对于用CVD化学气相沉积方法在金属箔上生长薄膜物质，如石墨烯、太阳能电池的电极材料和电池电极材料等、/span>
石墨烯生长炉田/span>HTTF1200真空管式炈/span>+真空系统+供气系统+水冷系统组成?*温度可以达到1200?/span>,可以是单温区、双温区、三温区等，极限真空可以达到10-3Pa，供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计，混气路数可以是2路?/span>3路?/span>4路?/span>5路相混合、/span>
石墨烯生长炉是一种特殊的CVD系统(化学气相沉积系统)，是专门为在金属箔（像铜箔、铝箔等）上生长薄膜而设计，广泛应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究上，特别适用于碳纳米管、碳纳米线、石墨烯的生长、/span>
HTTF-1200真空管式炉采用掺钼合金加热丝为加热元件，采用双层壳体结构和宇电控温仪表，能进衋/span>30段程序控温，移相触发、可控硅控制，炉膛采用日本进口氧化铝多晶纤维材料，具有温场均衡、表面温度低、节能等优点、/span>
真空管式炉软件控制系统：该炉配有通讯接口和软件，可以直接通过电脑控制炉子的各个参数，并能从电脑上观察到炉子上PV咋/span>SV温度值和仪表的运行情况，炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出，并能把每个时刻的温度数据保存起来，随时可以调出、/span>
产品名称 |
石墨烯生长炉（纳米管生长炉） |
产品型号 |
HTTF-1200-CVD |
管式炈/span> |
|
加热区长?/span> |
440mm |
恒温区长?/span> |
150 (+/-1ℂ/span>) |
工作温度 |
1100℃（此温度为长期加热温度（/span> |
**温度 |
1200ℂ/span> |
炉管尺寸 |
Φ60×1440mm |
等离子射频电溏/span> |
|
输出功率 |
5｝/span>500W±1% . |
射频频率 |
13.56 MHz±0.005% . |
反射功率 |
**?/span>200W |
阻抗匹配 |
自动 |
真空泵机组（双极旋片泵） |
|
真空?/span> |
10-3torr |
波纹箠/span> |
KFD25快接，不锈钢波纹管，手动挡板阀与法兰，真空泵相违/span>. |
质量流量讠/span> |
|
四通道控制 |
精度0.02%、数字显示、自动控制?/span>一个混气罐、底部装有泄废液叢/span> |
MFC 1范围 |
0~100 sccm |
MFC 2咋/span>3 |
0~500 sccm |
进气接口 |
1/4NPS |
出气接口 |
1/4NPS |
水冷系统 |
|
水冷法兰要求 |
水流野/span> >= 10L/M，配有专业水冷机练/span> |
石墨烯生长炉标准配件９/span>
质子混气系统1台、双旋机械泵1台、水冷系绞/span>1台?/span>K型热电偶1支、气炼石英炉箠/span>1根、不锈钢法兰1套、不锈钢炉钩1、刚玉炉塝/span>2对、高温手奖/span>1副、刚玉坩埙/span>2个、说明书1仼/span>.
暂无数据
CVD石墨烯生长炉的工作原理介绍？CVD石墨烯生长炉的使用方法？CVD石墨烯生长炉多少钱一台？CVD石墨烯生长炉使用的注意事顸/li>CVD石墨烯生长炉的说明书有吗＞/li>CVD石墨烯生长炉的操作规程有吗？CVD石墨烯生长炉的报价含票含运费吗？CVD石墨烯生长炉有现货吗＞/li>CVD石墨烯生长炉包安装吗＞/li>
移动?/p>
工商已核宝/p>
