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产品图片9/span>
产品型号9/span>
M150A
产品介绍9/span>
MIST-CVD氧化物薄膜沉积设备M150A是一种新型氧化物成膜技术,具有节能安全、易操作等优点,可广泛应用于第四代半导体Ga2O3,直接宽带隙光电半导体材 ZnO 等氧化物的薄膜沉积制造、/span>
M150A 是青禾晶元开发的**一 mist-CVD 氧化物薄膜沉积设备,致力于将半导体材料的制备技术推向新的时代、/span>
产品特性:
技术参数:
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