主成分含量(%):
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所谓光掩膜是微电子制造领域中光刻工艺所使用的图形母版,是由不透光的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形(Mask Pattern),并通过曝光将图形转印到产品基板之上、img src="https://img1.cnpowder.com.cn/img/daily/2024/11/28/163120_075594_procont.png" title="163120_075594_procont.png" alt="玻璃1.png"/>
掩模版的主要应用于以下领域:
IC(Integrated Circuit,集成电路)
尤其是LSI(Large Scale IC,大规模集成电路)包括Wafer制程及IC Bumping筈/span>
FPD(Flat Panel Display,平板显示器)包括PDP、LCD、LED、OLED筈/span>
PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板(/span>
MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统(/span>
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