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看了水平离子溅射镀膜设备的用户又看亅/p>
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工艺参数9br/>
一,真空系绞/span>
1、极限真空度?.0×10-5Pa
2、抽?0Pa所用时间: 10 分钟
3、漏率: 3.0×10-5Pa m3/sec
二,控制精度
1、靶材旋转:0.005°
2、工件旋?<1000RPM
3、编码器: 12000lines;480000Counts/rev
4、膜厚修正板?.005°
5、挡松 position switch
暂无数据
产品质量
售后服务
易用?/p>
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CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
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