看了通用磁控溅射镀膜机GMS-1000的用户又看了
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型号:GMS-1000 特点9/span> 1、支持向上或向下的镀膜方式; 2、先进的溅射靶材结构设计,实现膜厚分部的稳定可靠:/span> 3、高速旋转的伞具与实际镀膜工件的监控位置,实现了所见即所得; 4、多通道透射式监控,配合可调节膜厚修正板,实现了膜厚分布的反馈控制; 5、支持任意膜厚的控制:/span> 6、通用的控制平台,友好的人机界面,使客户可以自衋span style="margin: 0px; padding: 0px; font-family: 微软雅黑, "Microsoft YaHei"; font-size: 16px; color: rgb(0, 0, 0);">设置镀膜机的所有控制参数; 7、开放式接口,方便安装第三方的光学膜厚仪:/span> 8、气流和气压同时实时控制,适用出气量大的低温镀膜、/span> |
工艺参数9br/> 1?span style="margin: 0px; padding: 0px; border: 0px;">真空系统 a)极限真空度:4.0×10-5Pa b)抽至10Pa所用时间: 10 分钟 c)漏率 3.0×10-5Pa m3/sec 2?span style="margin: 0px; padding: 0px; border: 0px;">控制精度 a) 靶材尺寸?寸直徃/span> b)工件旋逞 20-120RPM c)工件尺寸:直?00mm d)离子源:等离子体离子溏/span> e)加热温度:上下双加热控制?*温度350?/span> f)高真空泵:DN400油扩散泵或电子泵 g)低真空泵组:机械泵+罗茨泵机练/span> h)冷阱:双组Polycold 3?span style="margin: 0px; padding: 0px; border: 0px;">光学监控系统OMS a)波长精度?.2nm b)光强波动: 白光< 0.1%,激?lt; 0.02% c)波长范围: 400nm-1650nm |
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