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型号
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF1200品牌
北京泰科诹/span>产地
北京样本
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设备名称：热 CVD 金刚石膜沉积设备
设备型号：HF1200
真空腔室结构：立式前开门结构，后置抽气系统，双层水冶/p>
真空腔室尺寸：?200mmxH1200mm
真空系统：高真空泵组系统
基片台尺寸：Φ500mm²×600mm² 方形基片台（旋转、升降可选）
衬底温度?00 1100ℂ/p>
电源：专用热丝电 2200A, 恒流或恒功率模式
气路控制? 路气体流量控刵/p>
控制方式：PC+PLC+ 触摸屏控刵/p>
占地面积：主 L5000mm×W3000mm×H4000mm
总功率： 300kW
设备名称：热 CVD 金刚石膜沉积设备
设备型号：HF1200
真空腔室结构：立式前开门结构，后置抽气系统，双层水冶/p>
真空腔室尺寸：?200mmxH1200mm
真空系统：高真空泵组系统
基片台尺寸：Φ500mm²×600mm² 方形基片台（旋转、升降可选）
衬底温度?00 1100ℂ/p>
电源：专用热丝电 2200A, 恒流或恒功率模式
气路控制? 路气体流量控刵/p>
控制方式：PC+PLC+ 触摸屏控刵/p>
占地面积：主 L5000mm×W3000mm×H4000mm
总功率： 300kW
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