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设备名称:热 CVD 金刚石膜沉积设备
设备型号:HF450
真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冶/p>
真空腔室尺寸:?50mmxH500mm
真空系统:复合分子泵高真空系绞/p>
基片台尺寸:Φ100mm
衬底温度?00 1100ℂ/p>
电源:专用热丝电 400A, 恒流或恒功率模式
气路控制? 路气体流量控刵/p>
控制方式:PLC 触摸屏控刵/p>
占地面积:主 L1200mm×W1060mm×H1900mm
总功率: 20kW
暂无数据