磨抛盘直径：
-主轴转速：
-单位能耗：
-装机功率（kw）：
-成品细度９/p>-
工作原理９/p>其他
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化学机械抛光朹/p>
TMP-200S/300S
该系列设备是适用于薄膜（介质层）的CMP抛光设备，包括氧化物、金属、STI、SOI、MEMS等产品的平坦化抛光。采用多分区气囊加压方式，可实现纳米级精密去除，配置半自动上下片系统，可根据需求选配摩擦力、电涡流、在线红外检测等EPD功能、/p>
暂无数据
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移动?/p>
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