参考价栻/p>面议
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反应离子刻蚀PECVD系统品牌
创世?/span>产地
北京样本
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Oracle III 多腔室系绞/p>
由中央真空传输机?CVT)、真空盒升降机和至多四个工艺反应室构成。这些工艺反应室与中央负载锁对接，既能够以生产模式运行，也能够作为单个系统独立作业。Oracle III是非常灵活的系统，既可以为实验室环境进行配置（使用单基片装卸），也可以为批量生产进行配置（使用真空盒升降机进行基片传送）、br/>由于Oracle III至多可容纳四个独立的工艺室，其可以有多种不同的工艺组合，其中包括RIE/ICP（反应离子刻蚀?电感耦合等离子）刻蚀和PECVD沉积。多个室可以同时工作。鉴于所有工艺室均有真空负载锁，工艺运行可靠且没有大气污染、/p>
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移动?/p>
工商已核宝/p>
