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Wafer XRD用于全自动晶圆拣选、生产和质量控制
特点
适用??寸晶圆。也可根据要求提供其他尺寷/strong>
FOUP、载具或单个晶圆?/strong>
跨槽晶圆识别为可选功胼/strong>
易于集成到任何工艺生产线?/strong>
测量速度:每个样品<10科/strong>
典型标准偏差(倾斜度):例如Si 100?.003°
MES和SECS/GEM接口
铜靶微焦点风冷X射线光管?*30W)或细焦点水冷X射线光管?*1.5kW(/strong>
完全符合CE标准的安全控制装?/strong>
通过3色灯塔指示状
材料
Si、SiC、GaAs、GaN、蓝宝石'/strong>Al₂O₂/strong>)、Ge、AIN、石英、InP?00s等、/strong>
可选插仵/span>
电阻率测量范围:0.01?.020Ωcm
自动识别晶圆数据矩阵码、二维码、条形码或类似代?/strong>
未抛光晶圆和镜面的距离测野/strong>
年产1,000,000片晶圅/strong>
暂无数据
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