看了科研级磁控溅射设备—MS-700的用户又看了
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MS-700磁控溅射设备是一款具有多功能、多阴极的磁控溅射系统,具有超高真空,单原子层沉积精度的特点。可根据需求配?inch以下的圆形阴极,可选择垂直溅射、自动传输、反应溅射、膜厚测量等配置。适用于研发和生产需要多靶溅射的中高精度的工艺需求、/p>
性能参数
晶圆尺寸 |
4inch-6inch |
镀膜均匀?/p> |
优于±2% |
极限真空 |
优于5×10-10mbar(金属密封) 优于5×10-9mbar(胶圈密封) |
温控 |
RT-800℃,可?*1200ℂ/p> |
阴极数量 |
12?inch 6?inch,共焦溅尃/td> |
电源 |
DC、RF、DC Pulse |
沉积精度 |
0.1nm |
占地面积 |
4m L*3m W*2.5m H |
可逈/p> |
低温泵、垂直溅射、自动传输、反应溅射、膜厚仪、RGA、工艺菜单等 |
暂无数据