参考价栻/p>面议
型号
POST CMP 清洗涱/span>品牌
安储科技产地
江苏样本
暂无品级9/p>合格?/span>
外观9/p>液体
有效物质含量9/p>-
执行质量标准9/p>-
密度(g/c?9/p>-
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半导体芯片在经过化学机械研磨后晶圆表面易产生缺陷+/span> 缺陷的存在会降低芯片的可靠性及芯片产出的良率,而普通清洗化学品不能有效解决此缺陷问题。公司现已经开发出适用亍/span>28纳米-130纳米的含TMAH经济型和不含TMAH环保型的研磨后清洗液、/span>7纳米-14纳米先进节点的研磨后清洗液正在研发中。另外根据材料的不同,公司研磨后清洗液包括铜、钴,钨等清洗液产品、/span>
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