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一、结构简今/p>
碳纳米膜制备设备如图所示,由气体质量流量计控制系统、液体注液系统、多段温度可控多区生长系统、水冷却系统、碳纳米线或膜收集系统,红外烘干系统等组成。生长炉?*温度1400℃,并可?-1400℃之间连续可调,垂直式分布热场,三点控温(三段长度平均分配),设备顶部设有注液口、导流器。炉体采用双层壳体结构并带有风冷系统,保温材料为加厚型,壳体表面温度小于60℃。采用高纯氧化铝管作为炉膛材料,加热元件为优质硅碳棒。本款碳纳米管或膜CVD设备可以实现连续生长不间断的特点、/p>
二、性能参数
型号 |
LFT1400C 800D802Z |
额定功率 |
18KW |
额定电压 |
AC380V |
**温度 |
1400ℂ/span> |
额定温度 |
1300ℂ/span> |
推荐升温速率 |
1400℃以下≤10?min |
炉管尺寸 (可根据客户要求订制(/span> |
刚玉箠/span>Φ80×1400mm |
外型尺寸(长×深×高(/span> |
1680*700*2560mm |
控温精度 |
±1ℂ/span> |
极限真空度(选件(/span> |
1.0×10-3Pa(机械泵+分子泵) |
加热元件 |
硅碳棑/span> |
重量 |
230KG |
客户自配装空气开兲/span> |
40A |
暂无数据
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