品级9/p>合格?/span>
外观9/p>其他
有效物质含量9/p>-
执行质量标准9/p>-
密度(g/c?9/p>-
虚拟号将 180 秒后失效
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产品名称9/span>晶圆衬底磨抛清洗?nbsp;
产品型号9/span>JTS-SY01(FL) '/span>PH值为碱性)
包装规格 1KG/瓶装 5KG/壶装 10KG/桶装 25KG/桶装
应用特征 本产品适用于晶圆衬底及光电晶体基材 研磨抛光后制 。主要清洗客户产品表 磨抛后的研磨液和抛光粉等脏污积留,有 效去陣/span>CMP制程在晶体表面残留的硅溶 化合物,经超纯水漂洗过后产品表面洁净 度特别高,接运/span>RCA湿法清洗标准。属 集特斯联合研发的特殊体系配方,专注于 减少CMP制程工艺中的硅溶胶化合物残留 有良好的污垢分散去除能力,本产品清洁 效果优异,对晶体材料无腐蚀的同时也 低员工在生产操作的风?/span>
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