无锡吉致电子25年研发生�?/strong>——氧化层抛光� /Oxide slurry/CMP抛光�?氧化物CMP研磨�?氧化物化学机械抛光液/半导体CMP抛光�?氧化层lapping研磨抛光�?氧化层slurry/氧化层抛光液抛光浆料/氧化层集成电路抛光液/氧化层CMP化学机械抛光液slurry/氧化层抛光液slurry

磨料类型：半导体cmp抛光液slurry

磨料粒径：纳米级SiO2

产品特点９�/strong>纳米级SiO₂磨料，粒径均一稳定，去除速率稳定，金属离子含量低，通过CMP工艺可有效去除表面氧化层，达到理想（177----06---168---670李）平坦度、�/span>

吉致电子Oxide Slurry与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点、�/span>

吉致电子氧化层抛光液/OxideSlurry抛光液储存方法：

通风，阴凉，干燥的库房，本品需�?-35℃储存，防止阳光直射及冻结，零度以下因产生不可再分散结块而失效、�/span>

吉致电子CMP抛光�?Slurry抛光液价格：

吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品、�/span>

本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民、�/span>

吉致电子CMP抛光耗材适用范围

吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠抛光解决方案！

如有需要，欢迎联系李女�?7706******