参考价栻/p>100-150万元
型号
CM-011品牌
超迈光电产地
四川成都样本
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●该设备用于纳米级单层或多层膜、类金刚石薄膜、金属膜、导电膜、半导体膜和非导电膜等功能薄膜的制备，可实现共溅射，直流、射频兼容，适于科研院所和企业进行功能薄膜研发、教学和新产品开发，同时可在微米级粉末或颗粒上沉积薄膜进而达到表面改性的功能。建议选用公Research系列磁控溅射平台、/p>
●主体结构：全封闭框架结构，机柜和主机为分体式机构、/p>
●极限真空度：≤?６３×10?Pa，压升率优于国家标准?nbsp;
●真空配置：高速直联旋片泵一台，配置尾气处理装置，超高分子泵一台、/p>
●真空测量：两路电阻规，一路电离规；电阻规和电离规均采用防爆型金属封结真空规、/p>
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