误差率：
-分辨率：
-重现性：
-仪器原理９/p>其他
分散方式９/p>-
测量时间９/p>-
测量范围９/p>-
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小型管式LPCVD设备简今/span>
LPCVD设备(化学气相沉积CVD（/span>是在低压高温的条件下，通过化学反应气相外延的方法在衬底上沉积各种功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科学研究、实践教学、小型器件制造、/span>
设备结构及特炸/span>
1、小型化，方便实验室操作和使用，大幅降低实验成本
两种基片尺寸2英寸?英寸；每次装??片、/span>
基片放置方式：配置三种基片托架，竖直、水平卧式、带倾角、/span>
基片形状类型：不规则形状的散片、??英寸标准基片、/span>
2、设备为水平管卧式结枃/span>
由石英管反应室、隔热罩炉体柜、电气控制系统、真空系统、气路系统、温控系统、压力控制系统及气瓶柜等系统组成、/span>
反应室由高纯石英制成，耐腐蚀、抗污染、漏率小、适合于高温使? 设备电控部分采用了先进的检测和控制系统，量值准确，性能稳定、可靠、/span>
暂无数据
LPCVD设备的工作原理介绍？LPCVD设备的使用方法？LPCVD设备多少钱一台？LPCVD设备使用的注意事顸/li>LPCVD设备的说明书有吗＞/li>LPCVD设备的操作规程有吗？LPCVD设备的报价含票含运费吗？LPCVD设备有现货吗＞/li>LPCVD设备包安装吗＞/li>
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工商已核宝/p>
