误差率：
-分辨率：
-重现性：
-仪器原理９/p>其他
分散方式９/p>-
测量时间９/p>-
测量范围９/p>-
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PECVD设备（等离子体增加强化学气相沉积PECVD（/span>主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长；采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术，是沉积高质量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工艺设备、/span>
设备用途和功能特点
1、该设备是高真空单频或双频等离子增强化学气相沉积PECVD薄膜设备，主要用于制备氮化硅和氧化硅薄膜、/p>
2、设备保护功能强，具备真空系统检测与保护、水压检测与保护、相序检测与保护、温度检测与保护、/p>
3、配置尾气处理装置、/p>
暂无数据
PECVD设备的工作原理介绍？PECVD设备的使用方法？PECVD设备多少钱一台？PECVD设备使用的注意事顸/li>PECVD设备的说明书有吗＞/li>PECVD设备的操作规程有吗？PECVD设备的报价含票含运费吗？PECVD设备有现货吗＞/li>PECVD设备包安装吗＞/li>
移动?/p>
工商已核宝/p>
