制作方法9/p>-
主成分含量:
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在材料产品中,CVD-SiC是颇具成长性的产品,该产品可作为半导体生产设备的治具及部件。碳化硅是硅和碳1:1结合构成的一种化合物,其硬度仅次于钻石和碳化硼。Ferrotec应用含有硅和碳的气体即CVD工艺法来进行制造。以硅片为例,采用CVD法将碳化硅涂覆在加工成圆盘状的石墨基材表面,切削外缘后,通过高温氧化除去石墨基材,再经过数道后续加工,硅片就完成了。在能源等高端产业领域,碳化硅这种高纯度材料受到越来越多的关注、/p>
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