参考价栻/p>面议
型号
AMS-2800M 槽式湿法蚀刻去胶设夆/span>品牌
艾迈?/span>产地
江苏样本
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设备简 手动、半自动、全自动槽式蚀刻去胶设备广泛应用于光刻胶去除 金属、晶片和基板等产品的蚀刻清洗去胶剥离工艺。且兼容2/3/4/6 8/12寸产品 可以选配兆声?超声波系统、管路防静电等配置等 可提供多个槽体进行化学药液或纯水,结合喷淋、溢流、快速冲 等清洗方式,配合先进的IPA干燥方式,可同时对应25?0片进行工 艺处理 系统非常安全,具有“冲洗至pH”功能,可在接触基质之前去除 室内的任何化学物质?nbsp;
产品特点 u 全自动化学品集中供液系统'/span>CDS u 带伺服电机的主轴组件,药液槽采用双槽体设计,可实现精确控 温,防止药液泄露,可多种化学物质回收利用 u 设备Through-Put产能每小?00片(双TANK),可选配单元模块 应不同的光阻去除需 u 振荡加热的DI-H2O低压分配臂,背面加热的DI-H2O用于剥离和干 燥辅 u 安全冲洗至整个工艺区域和基底的pH值禁止进入工艺和排水分流 器的联锁装置用于化学和冲洗DI-H2O的阀 u 全密封和径向排气室,用于:来自盖子的N2进料?*层、/span>
应用领域 半导体集成电路、晶圆、硅片、先进封装 MEMS、新能源、光伏、MiniLED等、/span>
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