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仪器简介:
拥有齐全的纳米系列压印胶材料,热压型纳米压印胵/strong>、热塑型纳米压印胵/strong>、紫外光固化垊strong>纳米压印胵/strong>、紫外光固化纳米压印和光刻两用胶、举离型传递层材料、刻蚀型传递层材料、各种与纳米压印技术相关的化学药品,如模板防粘剂、基片增粘剂等。适用于Obducat,Suss,HP,EVG等多种型号的纳米压印设备、/p> 技术参数: Photo-curable nanoimprint resist (cation intiation) 光固化型纳米压印胵/strong>(阳离子引发(/p>IPNR-T1000 Thermal plastic nanoimprint resist 热塑垊strong>纳米压印胵/strong> IPNR-T2000 Thermal curable nanoimprint resist 热固化型纳米压印胵/strong> IPNR-PC1000 Photo-curable nanoimprint resist (Free radical initiation) 光固化型纳米压印胵/strong>(自由基引发(/td> IPNR-PC2000 IPNR-UL1000 Under-layer polymer for lift off process 举离型传递层材料 IPNR-UL2000 Under-layer polymer etching mask process 刻蚀型传递层材料 IPNR-UPM Quick mold fabrication material 快速模板制作材斘/td> IPNR-AP Chlorosilane based adhesion promoter 氯硅烷增粘剂
同时还能能够根据不同的模板提供相应的防粘试剂、/p>
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