产品名称：离子束刻蚀系统

品牌９�/span>Elionix

型号９�/span>EIS-200

关键词标签：离子束蚀刻，干法蚀刻，离子束轰击，离子束减薃�/span>

简短描述：＇�/span><40字）９�/span>利用ECR技术产生高胼�/span>Ar+离子束，Ar+离子束通过电场加速，对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用、�/span>

一、简今�/span>

EIS-200�?/span>Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术（ECR）的小型离子束蚀刻系统，特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄，清洗、镀膜等、�/span>

EIS-200原理９�/span>

利用ECR技术产生高胼�/span>Ar+离子束，Ar+离子束通过电场加速到达样品表面，对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用、�/span>

EIS-200具有以下优点９�/span>

?方向性好，各向异性，陡直度高，侧向刻蚀尐�strong>

?分辨率高

?不受刻蚀材料限制，可对石英等材料进行蚀刺�strong>

?可控制蚀刺�span>Taper觑�strong>

?可以设定多样的实验条仵�/span>

二、主要功胼�/span>

l主要应用

纳米级图案刻蚀

高深宽比蚀刺�/span>

表面清洁

离子减薄

l技术能劚�/span>

离子�?/span>	ECR型离子枪
离子化气佒�/span>	Ar�?span>Xe等、惰性离子气佒�/span>
	N2�?span>O2�?span>CF4等、活性离子气佒�/span>
加速电厊�/span>	100V｝�span>3000V连续可变（高加速电压可逈�span>) (输出电流20mA MAX)
离子束流密度	Ar:1.5mA/cm2以上(2kV加速時（�/span>
	O2:2.0mA/cm2以上(2kV加速時（�/span>
离子束有效直徃�/span>	��20mm＇�span>FWHM35mm)
离子束稳定度	��3＄�span>/2H
大样品尺寷�/span>	��4英寸

三、应�?/span>

纳米级图案刻蚀、高深宽比蚀刻、表面清洁、离子减薄等

?SiO2 on Si substrate

?Diamond Substrate（金刚石（�/span>

?Quartz (Mask)

?Oriented PET film