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H20-UVL真空紫外单色仪在真空环境下覆?00-400nm?-12.4eV),在大气环境下覆盖190nm-400nm?-6.5eV)。结合真空紫外光源和蜗轮驱动实现快速精确的光谱扫描,可作为一个优异的真空紫外单色光源使用。在分辨率要求不高的情况下,配备单通道探测器,H20-UVL还是一个高性价比的真空紫外光谱分析系统、/p> 技术特炸/strong> 单片式光学结构确保光通量**化,高光学稳定?/p> 配备4型消像差单色仪光栅,全光谱范围线色散均匀 全自动蜗轮高速驱动光栄/p> 光栅表面镀氟化镁膜,优?20nm以上波长的输凹/span> 典型应用 透射反射测量 荧光激叐/p> 可调滤波/光源 激光谐波滤泡/p> 技术指栆/strong>
光学设计 | HJY**皃/span>4型消像差单色仪光栄/span> |
焦长 | 200 mm |
孔径 | f/4.2 |
刻线密度 | 1200 gr/mm |
光学镀膛/span> | 针对121nm优化皃/span>MgF2膛/span> |
偏转觑/span> | 64 |
色散 | 100nm夃/span>3.6 nm/mm |
驱动 | 高速蜗轮驱?/span> |
*小步迚/span> | 0.06 nm |
速度 | 400 nm/s |
精度 | +/- 0.2 nm戕/span>+/-0.06 nm (*) |
可重复?/span> | +/-0.06 nm |
分辨玆/span> | 优于0.5 nm (**) |
高真穹/span> | 10-5 mbar (***) |
真空泵法?/span> | DN40 KF |
入射/出射接口 | 测微狭缝(10 um 臲/span> 2 mm) |
入射/出射法兰 | DN25 KF |
电脑接口 | USB2.0 |
可选项 | |
超高真空 | 10-9 mbar |
狭缝高度调节?/span> | 2 4 6 mm |
(*)使用我们固件中的软件驱动矫正可以提高单色仪的精度 | |
(**)使用宼/span>10微米,高2mm的狭缝在121nm处测野/span> (***)H20-UVL不含真空泵和真空讠/span> |
附件
前镜腔,配备两块超环面镜,实现光源和单色仪之间的光学匹配
后镜腔,配备两块超环面镜,实现单色仪和样品室之间的光学匹酌/p>
样品室,可搭?块直径不大于25mm的样?/p>
偏振插片
制冷机,*低至4K
真空泴/span>
暂无数据