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在CMP步骤之后，需要在低温下使用稀释的化学品进行物理预清洗工艺，以减少颗粒数量。盛美上海的Post-CMP清洗设备能够满足这些要求，并提供多种配置，包括盛美上海自主研发的 Smart MegasonixTM先进清洗技术、/p>
在线预清洗设备：
可实?7纳米以下少于15个剩余颗粒或28纳米以下
20-25个剩余颗粑br style="box-sizing: border-box; outline: 0px; padding: 0px; margin: 0px;"/> 金属污染可控制在1E+8（原?平方厘米）以冄br style="box-sizing: border-box; outline: 0px; padding: 0px; margin: 0px;"/> 当配?个腔体的时候，产能可达每小?5片晶圅/p>
离线预清洗设备：
可实?7纳米以下少于15个剩余颗粒或28纳米以下
20-25个剩余颗粑br style="box-sizing: border-box; outline: 0px; padding: 0px; margin: 0px;"/> 占地面积導/p>
可配置四个装载端叢/p>
占地面积導/p>
可配置四或六个腔体，分别为两个软刷和两个清洗腔体或两个软刷和四个清洗腔体
可实?7纳米以下少于15个剩余颗粒或28纳米以下20-25个剩余颗粑/p>
**产能可达每小?0片晶圅/p>
暂无数据
Post-CMP清洗设备的工作原理介绍？Post-CMP清洗设备的使用方法？Post-CMP清洗设备多少钱一台？Post-CMP清洗设备使用的注意事顸/li>Post-CMP清洗设备的说明书有吗＞/li>Post-CMP清洗设备的操作规程有吗？Post-CMP清洗设备的报价含票含运费吗？Post-CMP清洗设备有现货吗＞/li>Post-CMP清洗设备包安装吗＞/li>
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工商已核宝/p>
