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高级薄膜测定系统
NKD-8000系统综合了光学、电子学和高级分析软件,是目前测定多层薄膜和基片的折射率、吸收系数和厚度*精确?易用的系统。NKD-8000系列产品具有全自动、可同时测定透过光谱和反射光谱,入射光角度从0?0连续改变。对分光光谱仪而言,这是一?***的新功能,使得NKD-8000适用?*挑战性的光学测量。对多层薄膜和基片的n、k和d的测定变得准确、快捷、/p>
技术参数:
光谱范围
NKD-8000 350nm?000nm ( 标准模式 )
NKD-8000v 280nm?000nm ( 紫外增强?
NKD-8000r 800nm?700nm ( )
NKD-8000w 350nm?700nm (宽光 )
NKD-8000e 350nm?200nm (超宽光谱 )
注:宽光谱型提供两个检测器,可以覆?50nm?000nm?00nm?700nm?200nm (仅适用nkd-8000e),但二者不能同时用
获得数据时间
2?0分钟,这取决于光谱范围和不同选件
数据分析时间
5秒?分钟,取决于数据的复杂程
光谱分辨
1nm?nm (可选)
光源
NKD-8000v 150W 氙弧
其他 高稳?00W石英钨卤
样品尺寸
1010mm?00250mm标准系统?00mm 直径样品的扫描台
层数
至多5层,两个未知参数
薄膜厚度范围
1nm?5um,取决于角度、偏振和波长
1nm 需要增加椭偏模
基片
透明、半透明或半吸收或半导体
材料
电介质、高聚物、半导体和金
精确
对于半吸收薄 典型 **
薄膜厚度 ?% ?%
折射 ?.1% ?%
消光系数 ?% ?%
对于金属薄膜
薄膜厚度 ?% ?%
折射 ?% ?%
消光系数 ?% ?%
重现
透射 ?.01% ?.1%
反射 ?.01% ?%
折射系数 ?.01% ?.1%
入射光角
30?0?0(标准单元)或由客户指定的从
20?0连续可变(可变角版本)或3个位置角
样品上的光斑尺寸
5mm(标准系统)?50um(选件
电源
220V?0Hz?A ?10V?0Hz?A
外观尺寸
890540720mm
重量
105Kg
选件
多角度,可变角度,X-Y样品扫描台,多种标准尺寸品架。样品观测显微镜。手动或全软件控制的偏振选件(s-、p-或非偏振)。样品加热台。台式机或工业PC、/p>
主要特点9/strong>
主要特点
可测定波长范围从280nm?300nm的透射和反射光
在同一区域可同时测定T和R
可对折射?n),吸收系?k) 和厚?d)进行准确测定
样品可在X-Y扫描台上进行扫描
入射光角度可以是固定角度、多角度和从0?0的连续变化的角度
可用s-、p-或非偏振光作为入射光对T和R进行测定
可对透明基片进行测定且不需要对样品进行前处
内建的材料数据库
密封的样品室
可选择散射模式
具有在线或离线分析功
对T和R同时测定
KD-8000系统在同一个光斑处,同时对透过光谱和发射光谱进行测定,保证了两套数据具有直接的相关性。通过测定这些光谱,全自动的控制和分析软件系统可以从中得到n、k和d值。而且所有这些都源自同一次测定。不同散射模式的选择使得对宽广范围材料的分析成为可能,而且用户可以选择缺省模式或者高级分析模式
功能强大的Pro-OptixTM控制和分析软件系统包括一个可编辑的数据库,它允许对材料进行预先定义,以提高分析速度。该软件的其他特点包括颜色的匹配和太阳光的计算以及金属薄膜的算法。样品可以是透明的、不透明的或者半吸收的而无需对它们特殊处理
NKD-8000?*一款能全部提供上述功能的分光型光学薄膜分析系统,它为薄膜表征设立了一个标准
可变的入射光角度
①反射光检 ②光束管 ③Y轴坐 ④透射光检测器 ⑤Z轴坐 ⑥X轴坐 ⑦样品台 ⑧马达驱动的可变角度选择装置
NKD-8000系统提供可变的角度选择装置,它提供完全马达驱动的,可由PC机控制入射光的角度,入射角度从从0?0可自由选择
通过使用分析软件中的集成工具就可实现对T和R的s-偏振光谱和p-偏振光谱进行独立分析或二者一起分析
通过作为选件的X-Y扫描台可以对大尺寸样品进行扫描,样品在X、Y两个方向上的**行程?00mm,同时保持入射光斑始终位于行程的中间
在测定时有许多样品架备选,它们可以夹持不同类型尺寸的样品。全PC控制使这种方法对整个样品的数据收集和分析变得简单、准确和快捷
多个角度
如果在应用中只需一些不连续的入射光角度,那么多角度选件可以提供一个满意的解决方案。从0?0,用户可自定义三个入射光角度
附件
热台:可控制样品温度?50度,测定变温下的T和R,对测定光学涂层和基体的光谱位移十分有用
显微?相机:对样品进行显微分析
微光斑附件:将入射光斑聚焦至200微米,特别适合表征微小样品和局部区域、/p>
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