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晶硅太阳能电池表面钝化用高产出原子层沉积系统
ALD for surface passivation of c-Si solar cells
应用９/p>
1.CIGS太阳能电池无镉缓冲层沉积
2.晶硅太阳能电池表面钝化层沉积
3.大规模生产的应用
4.工业全自动生产设夆/span>
5.高产量：高达4500晶片/小时(156 X 156 m?
特征９/p>
1.良好的厚度＆均匀性好皃span>Al2O3薄膜
2.用于短气体循环时间的先进工艺套件和小体积
3.具体化的ALD机械装置
4.全集成工艺模坖/span>
5.操作过程简協/span>
6.自动式操佛/span>
技术规格：
| Model | Material | Wafer Size(mm2) | Thickness (nm) | Throughput(wph) |
|---|---|---|---|---|
| LucidaTMGS200 | Al2O3 | 156x156 | 4 | ?/span>550 |
| LucidaTMGS800 | Al2O3 | 156x156 | 4 | ?/span>2300 |
| LucidaTMGS1200 | Al2O3 | 156x156 | 4 | ?/span>3400 |
| LucidaTMGS1600 | Al2O3 | 156x156 | 4 | ?/span>4500 |
| LucidaTMGS6000 | Al2O3 | 156x156 | 4 | ?/span>6000 |
暂无数据
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