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主要优势

配置了具有自主知识产权的腔体设计和单腔体多加热盘布局

配置了特殊的气体分配装置和卡盘设讠�/p>

针对薄膜叠层的变换可以提供更好的薄膜均匀性，更优的薄膜应力和更少的颗粒特�?/p>

兼顾高产能要求每个腔体都安装有多个加热盘

灵活配置腔体数量兼顾不同产能要求

自主开发的控制软件能够灵活配置满足相应需汁�/p>

独特设计的真空机械手臂匹配腔体多加热盘晶圆存取规刘�/p>

工艺温度兼容200C�?50C的各种PECVD沉积薄膜要求

特性和规格

可适用�?00mm晶圆各种薄膜沉积需汁�/p>

该设备采用单腔体模块化设计，有两种配置：
　　　　一种是可配置一至三腔体模块，适用于沉积比较薄的薄膜兼顾产能大導�br style="box-sizing: border-box; outline: 0px; padding: 0px; margin: 0px;"/>　　　　一种是可配置四至五腔体模块，适用于沉积比较厚的薄膜兼容长臂真空机械手臁�br style="box-sizing: border-box; outline: 0px; padding: 0px; margin: 0px;"/>