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C11665-01 微米膜厚测量?/strong>
特?/p>
无参照物工作
尺寸紧凑,节省空闳/p>
高速、高准确?/p>
不整平薄膜精确测野/p>
分析光学常数(n,k(/p>
可外部控刵/p>
参数
型号 | C11665-01 |
可测膜厚范围(玻璃) | 0.5 m to 700 m*1 |
可测膜厚范围(硅(/td> | 0.5 m to 300 m*2 |
测量可重复性(硅) | 0.1 nm*3 *4 |
测量准确度(硅) | 1 %*4 *5 |
光源 | LED |
测量波长 | 940 nm to 1000 nm |
光斑尺寸 | Approx. 1 mm*4 |
工作距离 | 5 mm*4 |
可测层数 | **10屁/td> |
分析 | FFT 分析,拟合分析,光学常数分析 |
测量时间 | 19 ms/炸sup>*6 |
光纤接口形状 | FC |
外部控制功能 | RS-232C / Ethernet |
电源 | AC100 V to 240 V 50 Hz/60 Hz |
功耖/td> | 85W |
*1:SiO2薄膜测量特?/p>
*2:Si薄膜测量特?/p>
*3:测? m厚硅薄膜时的标准偏差
*4:取决于所使用的光学系统或物镜的放大率
*5:在标准量具的测量保证范围内
*6:连续数据采集时间不包括分析时间
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