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新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能、/p>
0.4nm / 30kV（SE（/p>
1.2nm / 1kV（SE（/p>
0.34nm / 30kV（STEM（/p>
用改良的高真空性能?***的电子束稳定性来实现高效率截面观察、/p>
采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号、/p>
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