无掩模曝光机

美国IMP＇�/span>Intelligent Micro Patterning� LLC）公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光**技术，已成为无掩模紫外光刻领域�?**、�/span>

　

产品优点９�/span>

微米和亚微米光刻(*小可达到0.6um线宽)

紫外光直写曝先�/span>＋�span>无需掩模，大幅节约了掩模加工费用

灵活性高，可直接通过电脑设计光刻图形，并可根据设计要求随意调整、�/span>

可升级开放性系统设计、�/span>

按照客户要求可从低端到高端自由配�?/span>

使用维护简協�/span>�设备耗材价格低、�/span>

应用范围广，目前广泛应用于半导体、生物芯片、微机电系统、传感器、微化学、光学等领域、�/span>

*小线宽可以达�?.6um量级