Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经�?5年以上的ALD研发生产经验�?003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学，05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah� 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix�?017年被Veeco收购，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止，Veeco在ALD设备已有15年多的经验，全球已安装五百多台ALD设备、�/span>

方式: Thermal ALD (plasma option)

优势: 性能强，成本小，易于操作和维抣�/span>

薄膜: 氧化物Al2O3� HfO2� La2O3� Li2O� Li7La3Zr2O12� LiFePO4� SIO2� TiO2� ZnO� ZrO2� Ta2O5� In2O3� SnO2� Fe2O3� MnOx� Nb2O5� MgO� Er2O3� WOx� MoO3� V2O3 硫化物ZnS� SnS� Cu2S� In2S3� Cu2ZnSnS4，PbS� CoS筈�/span>

反应腔体大小: S100: 可达100 mm / S200: 可达200 mm / S300: 可达300 mm

设备尺寸: S100: 585 x 560 x 980 mm / S200: 585 x 560 x 980 mm / S300: 686 x 560 x 980 mm

操作模式: 连续模式(高�? / 曝光模式(超高深宽�?

功率: 115 VAC / 220 VAC�?900 W (不包含泵) (S300 2000W)

*强温�? S100: RT - 400 ��C / S200: RT - 350 ��C / S300: RT - 350 ��C

沉积均一�? Al2O3９�1% (1��)

循环时间: <2s per cycle with Al2O3 at 200��C

兼容: 标准二端口，可增加至六端口。每一个源瓶均可放固�?液�?气态前驱体，可独立加热�?00��C

阀�? 高速ALD阀门，10ms响应

前驱体源瓵� 独立可加�?0ml不锈钢气瓶，可选择更大容量

载气/排气: N2�?00SCCM

原位分析选项: 原位QCM� 原位椭便仪， 残余气体分析� LVPD� 批量生产� 集成手套箱等� 臭氧发生器， 批量生产� 自组装单层膜(SAMs)颗粒镀膜， 等离子体加强