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EMPro是针对高端研发和质量控制领域推出?*型多入射角激光椭偏仪、/p>
EMPro可在单入射角度或多入射角度下进行高精度、高准确性测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量快速变化的纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的**厚度测量、/span>
EMPro采用了量拓科技多项**技术、/span>
特点９/font>
原子层量级的极高灵敏?/strong>
百毫秒量级的快速测野/strong>
简单方便的仪器操作
技术指标：
项目 |
技术指栆/strong> |
仪器型号 |
EMPro31 |
激光波镾/p> |
632.8nm (He-Ne Laser) |
＇sup>1（/sup>膜层厚度精度 |
0.01nm (对于平面Si基底?00nm的SiO2膜层) |
＇sup>1（/sup>折射率精?/p> |
1x10-4(对于Si基底?00nm的SiO2膜层) |
单次测量时间 |
与测量设置相关，典型0.6s |
结构 |
PSCA?#916;??80附近时也具有极高的准确度（/p> |
激光光束直徃/p> |
1mm |
入射角度 |
40-90可手动调节，步进5 |
样品方位调整 |
|
样品台尺寷/p> |
平面样品直径可达170mm |
**的膜层范図/p> |
|
**外形尺寸 |
887 x 332 x 552mm (入射角为90?? |
仪器重量（净重） |
25Kg |
选配仵/p> |
|
软件 |
ETEM软件９/p>
|
注：(1)精度：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测?5次所计算的标准差、/span>
性能保证９/strong>
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移动?/p>
工商已核宝/p>
