溅射设备 MVS

MVS提供单靶材或多靶溅射设备。可根据用户需求定制、�/p>

制备透明导电薄膜 (如ITO，AZO)、�/p>

MVSystems� Inc. 由曼登博士（Dr. Arun Madan）创建于1989年、�/p>

曼登博士曾在英国丹迪大学从师于斯皮尔（Walter Spear)教授，是1970年代*早从事非晶硅材料和器件研究的人员之一、�/p>

曼登博士在非晶硅薄膜晶体管（TFT)方面进行了开创性的研究，这是他的博士论文的主要内容之一。非晶硅薄膜晶体管现已成为平板显示器中必不可缺的重要器件、�/p>

公司在薄膜半导体技术和先进的高真空半导体薄膜沉积设备方面拥�?4�?*，包括：

多腔室PECVD沉积系统 � 主要产品 用于柔性衬底的Reel-to-reel多室系统 - 主要产品

碳热丝化学气相沉积设� 掺氟纳米硅（微晶硅）材料

P型宽带隙非晶硅材� 掺氟二氧化锡绒面透明导电膜（与日本Asahi公司合作（�/p>

公司生产制造的80多台设备已销往全世�?3个国家和地区、�/p>

公司生产的主要薄膜材料和器件产品包括９�/p>

材料

器件

非晶硅（a-Si:H)

薄膜硅太阳电江�/p>

纳米(微晶)� (nc-Si)

薄膜晶体箠�/p>

氮化�?SiNx)，氧化硅(SiOx)，氮氧化�?SiON)

成像器件

氧化�?AZO)，铟锡氧化物(ITO)� 二氧化锡(SnO2)

X光探测器

MVSystems公司设计，制造和提供各类单腔室和多腔室薄膜沉积设备。另外，根据用户的需求，各种

PECVD，HWCVD，和PVD腔室可以单个制造，也可配备到现有的团簇型（星型）或是直线型沉积系。我们公司的工程设计部门尽可能为用户着想，以使用户们获取他�?需要的且价格合适的设备、�/p>