看了日本电子JIB-4600F聚焦离子束的用户又看亅/p>
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主要特点9/span>
? 浸没式热场发射电子枪
提供高稳定的电子束束?span>+/span>?*光栏角控制透镜配合获得高分辨图僎span>.
? 电子束大电流高速分枏/span>
电子?*束流强度200nA
? 离子束大电流模式
加工速度很快
? 实时监控加工过程
通过扫描电镜图像可以实时监控加工过程,提高了内部结构分析和获徖span>TEM用薄膜样品的效率、/span>
? 扩展性极弹/p> 大样品台**装样直径50mm,并且可以同时安裄span>EDS EBSD and CLD等探夳/span> 技术参数: FIB 离子源:Ga(镓)液态金属离子源 保证分辨率: 5 nm 以下(加速电厊span> 30 kV) 加速电压: 5 to 30 kV 放大倍数 x30 (广域) x100 - x300?00 **束流9span>30 nA SEM 浸没式热场发射电子枪 保证分辨率: 1.2 nm (电压 30 kV) 加速电压: 0.2 to 30 kV 放大倍数9span>x50 - x1?00?00 **束流9span> 200 nA 样品台移动范围: X:50mm Y:50mm Z:1.5}span>40mm T:,span>5
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