看了磁控溅射镀膜机(Sputter)的用户又看了
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仪器特点9/p>
腔体材料:不锈钢,铝,或者Bell Jar:/p>
分子泵:70?50?00 l/sec 一级泵:机械泵或干泵;
13.5MHz 300-600W射频电源?KW直流电源:/p>
QCM在线厚度测量,厚度分辨率<0.1nm:/p>
带有观察窗的门,方便样品取放:/p>
Labview软件,PC控制:/p>
多重密码保护:/p>
全安全互锁设计;
选配功能9/p>
向上,向下,侧向溅射:/p>
射频,直流、脉冲直流溅射;
共溅射,反应溅射:/p>
组合溅射:/p>
射频、直流偏?1000V):/p>
基底加热:不高于700摄氏度;
厚度监控:/p>
基底射频等离子清洗;
Load-Lock,以及自动样品取放;
不同型号选择9/p>
NSC系列,立式磁控溅射系统;
NSC系列,立式紧凑磁控溅射系统;
NSC系列,台式磁控溅射系统;
双腔体系统,NSR系列,磁控溅?反应离子刻蚀(RIE):/p>
双腔体系统,NSP系列,磁控溅?PECVD:/p>
双腔体系统,NST系列,磁控溅?热蒸发;
暂无数据