虚拟号将 180 秒后失效
使用微信扫码拨号
ICPECVD沉积技?/strong>
NPE-4000(ICPA)全自动ICPECVD等离子体化学气相沉积系统概述9span>NANO-MASTER ICPECVD系统能够沉积高质量的SiO2 Si3N4 戕span>DLC薄膜?*可达6 直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子,具有分形气流分布的优劾span>.样品台可以通过RF或脉冱span>DC产生偏压。并可以支持加热和循环冷却水的冷即span>.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵,腔体可以达到低臲span>10-7 torr的真空。标准配置包?span>1路惰性气体?span>3路活性气体管路和4?span>MFC.带有****气体分布系统的平面中空阴极等离子源使得系统可以满足广大范围的要求,无论是等离子强度、均匀度,还是要分别激活某些活性组份,这样系统可以覆盖*广的可能性来获得各种沉积参数、/span>
NPE-4000(ICPA)全自动ICPECVD等离子体化学气相沉积系统应用9/span>
等离子诱导表面改性:就是通常所说的用等离子实现表面改?/span>(如亲水性、疏水性等)
等离子清洗:去除有机污染?/span>
等离子聚合:对材料表面产生聚合反库/span>
沉积二氧化硅、氮化硅?/span>DLC(类金刚石),以及其它薄膛/span>
CNT(碳纳米管)和石墨烯的选择性生长:在需要的位置生长CNT或石墨烯、/span>
NPE-4000(ICPA)全自动ICPECVD等离子体化学气相沉积系统特点9/span>
立式ICPECVD系统
不锈钢或铝制腔体
极限真空可达10-7Torr
全自动上下载片,带预真空?/span>
ICP离子溏/span>
高达6?150mm)直径的样品台
RF射频偏压样品?/span>
水冷样品?/span>
可加热到皃span>800 C样品?/span>
加热的气体管?/span>
加热的液体传送单兂/span>
抗腐蚀的涡轮分子泵练/span>
**可支持到8MFC
基于LabView软件皃span>PC计算机全自动控制
菜单驱动+span>4级密码访问保抣/span>
完整的安全联?/span>
暂无数据