原子层沉积技�?/strong>

NLD-4000（A）全自动原子层沉积系绞�/strong>概述９�span>原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术，具有广泛的应用、�/span>ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响，所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性，可以提供**的薄膜性能、�/span>ALD原子层工艺也可以实现到大基片上、�/span>

NLD-4000（A）全自动原子层沉积系绞�/strong>特点９�span>NLD-4000（A（�/span>是一款全自动独立皃�/span>PC计算机控制的ALD原子层沉积系统，�?/span>Labview软件，具备四级密码控制的用户授权保护功能。系统为全自动的安全互锁设计，并提供了强大的灵活性，可以用于沉积多种薄膜（如９�/span>AL2O3� AlN� TiN� ZrO2� LaO2� HfO2＋�/span>等等）。应用领域包含半导体、光伏�?/span>MEMS等、�/span>NLD-4000（A（�/span>系统提供12“�/span>的铝质反应腔体，带有加热腔壁和气动升降顶盖，非常方便腔体的访问和清洁。该系统拥有一个载气舱包含多达7�?/span>50ml的加热汽缸，用于前驱体以及反应物，同时带月�/span>N2或耄�/span>Ar作为运载气体的快脉冲加热传输阀、�/span>

NLD-4000（A）全自动原子层沉积系绞�/strong>选配９�span>NLD-4000（A（�/span>系统的选配项包�?/span>＋�/span>ICP离子溏�/span>(用于等离子增强的PEALD)，臭氧发生器，等等、�/span>

NLD-4000（A）全自动原子层沉积系绞�/strong>应用９�/span>

• Oxides氧化�? Al203� HfO2� La2O3� SiO2� TiO ZnO� In2O3，etc

• Nitrides氮化�? AlN� TiN� TaN� etc..

• Photovoltaic and MEMS applications光伏及MEMS应用.

• Nano laminates纳米复合材料