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NRE-3000RIE反应离子刻蚀朹/strong>是基于PC控制的全自动系统.系统真空压力及DC直流偏压将以图形格式实时显示,流量及功率则以数字形式实时显示.系统提供密码保护的四级访问功胼操作员级、工程师级、工艺人员级,以及维护人员级.允许半自动模?工程师模?、写程序模式(工艺模式) 和全自动执行程序模式(操作模式)运行系统。基于全自动的控制,该系统具有高度的可重复性、/p>
NRE-3000RIE反应离子刻蚀朹/strong>产品特点9/p>
铝质腔体或不锈钢腔体
不锈钢立柛/p>
能够刻蚀硅的化合?~400? /min)以及金属
典型的硅刻蚀速率?00 ?/min
高达12"的阳极氧化铝RF样品?/p>
水冷及加热的RF样品?/p>
大的自偏厊/p>
淋浴头气流分市/p>
极限真空5x10-7Torr?0分钟内可以达?0-6Torr级别
涡轮分子泴/p>
*多支?个MFC
无绕曲气体管?/p>
自动下游压力控制
终点监测
气动升降顶盖
手动上下载片
基于LabView软件的PC计算机全自动控制
菜单驱动?级密码访问保抣/p>
完全的安全联?/p>
可选ICP离子源以及低温冷却样品台,用于深硅刻蚀
NRE-3000RIE反应离子刻蚀朹/strong>产品相关型号9/p>
NRE-4000:基于PC计算机全自动控制的独立式系统,占地面?6“D x 44"W
NRE-3500:基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立式系统,占地面积26“D x 26"W
NRE-3000:基于PC计算机全自动控制的台式系统,占地面积26“D x 26"W
NRP-4000:RIE/PECVD双系绞/p>
NDR-4000:深RIE刻蚀(深硅刻蚀)系统
暂无数据