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原子层沉积技?/strong>
原子层沉积系绞/strong>9/span>原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术,具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性,可以提供**的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上、/p> 原子层沉积系绞/strong>应用9/span> 高介电薄膛/p> 疏水涂层 钝化屁/p> 深硅刻蚀铜互连阻挡层薄膜 微流控台阶涂屁/p> 用于催化剂层的单金属涂层的燃料电江/p> ALD-4000原子层沉积系绞/strong>特点9/span> 独立皃/span>PC计算机控制的ALD原子层沉积系绞/span> Labview软件,具备四级密码控制的用户授权保护功能 安全互锁设计,强大的灵活性,可以用于沉积多种薄膜(如9/span>AL2O3 AlN TiN ZrO2 LaO2 HfO2+/span>等等(/span> 12“/span>的铝质反应腔体,带有加热腔壁和气动升降顶盕/span> *夙/span>7?/span>50ml的加热汽缸,用于前驱体以及反应物,同时带月/span>N2或耄/span>Ar作为运载气体的快脉冲加热传输阀 ALD-4000原子层沉积系绞/strong>选配项: NLD-4000系统的选配项包含自?/span>L/UL上下轼/span>(用于6“/span>基片) ICP离子溏/span>(用于等离子增强的PEALD) 臭氧发生?/span> 等等客户定制选项 案例?”晶圆片上的均匀性数?/span>
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