磁控溅射技�?/strong>

GSC-1000磁控溅射系统概述９�/p>

带有水冷或者加�?**可加热到700�?功能�?*�?"旋转平台�?*可支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可�?0-7 Torr�?5分钟内可以达�?0-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度、�/p>

GSC-1000带有10"派热克钟罩腔体，2�?"的磁控管，DC直流电源用于溅射金属，并带有膜厚监测�?选配)、�/p>

产品特点９�/strong>

• 不锈钢，铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腓�/p>

• 70l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泴�/p>

• 1KW DC直流电源

• 晶振夹具具有皃�1 ?的厚度分辨率

• 带观察视窗的腔门易于上下载片

• 基于LabView软件的PC计算机控刵�/p>

• 带密码保护功能的多级访问控制

• 完全的安全联锁功胼�/p>