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立高新离子研磨装?/span>IM4000＇/span>HITACHI Ion Milling System IM4000）具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器！
日立高新离子研磨装置IM4000＇/span>HITACHI Ion Milling System IM4000（/span>皃/span>混合模式带有两种研磨配置９/span>断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面以下结构高分辨成像、/span>平面研磨：将样品表面均匀研磨5平方毫米，从不同角度有选择地研磨，以便突出样品的表面特性、/span>
日立高新离子研磨装置IM4000＇/span>HITACHI Ion Milling System IM4000（/span>皃/span>高通量能提高加工效率：与之前的E-3500型相比，采用新型离子枪设计，减少了横截面研磨时间、/span>?*加工率：硅元素为300微米/小时加工时间减少亅/span>66%、/span>
日立高新离子研磨装置IM4000＇/span>HITACHI Ion Milling System IM4000（/span>皃/span>可拆卸样品台装置９/span>
为便于样品设置和定义研磨边缘，可将样品台装置拆卸、/span>
特点 |
混合模式：两种研磨配?/span>断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面高分辨观察平面研磨：不同角度有选择地，大面积，均匀地研?span>5 mm的平面，以突显样品的表面特?/span> 高效：提高加工效玆/span>与之前的E-3500型相比，采用新型离子枪设计，减少了横截面研磨时间(**加工速度：硅材质丹/span>300 m/h -加工时间减少亅/span>66%) 可拆卸式样品台：为便于样品设置和边缘研磨，样品台设计为可拆卸垊/span> |
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