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美国SVT公司ALD原子层沉积系绞/strong>
?990年来薄膜淀积设?*制造商、/p>
拥有独立的室内实验室用于材料研究和工艺开发、/p>
提供广泛的服务,包括淀积设备、淀积部件、集成传感器以及工艺控制
设备制造和工艺技术的高度结合,为客户提供可靠的技术服加/p>
实验?台应用淀积设备生长出***的材斘/p>
多条设备生产线几乎覆盖了整个薄膜淀积设备市圹/p>
在薄膜淀积领域拥有超?20台设备的**供应商、/p>
NorthStar ALD系统介绍9/strong>
NorthStar ALD原子层沉积系统提供各种淀积方法,包括热淀积以及能量增强淀积、/p>
每台设备可以提供多达8个先驱源管路以及一个热壁淀积腔,使其应用范围极为广泛、/p>
设备的快速舱口盖或装载室(可选件)使样品操作快捷方便、/p>
NorthStar ALD系统不但能跟其他设备连接起来,还能连接多种测量仪器、/p>
原位测量工具以及RoboALD软件自动化系统提高了工艺的再现性、/p>
可以直接升级至超高真穹/p>
提供工艺演示以及工艺培训服务
为潜在客户提供免费样品测试、/p>
应用领域9/strong>
High-K电介?/p>
纳米涂层
MEMS
光子晶体
扩散阻挡屁/p>
器件封装
表面改性层
技术参数:
为科研客户量身打?**的原子层沉积系统、/p>
提供4"?"?"?2"等多种尺寸的样品平台、/p>
针对客户的需求,提供多种输气设计、/p>
---可控真空? 1 Torr to UHV
---气道加热
---气体快速进凹/p>
---样品尺寸: 4in standard optional 12in
---基底加热: up to 300 ℃, optional higher temp
主要特点9/strong>
*安全的设计,多样化的配置,全方位的测试手段、/p>
精确的控制手段打?*的成膜质量。强大的科研团队铸就**的科技实力、/p>
---气体离子匕/p>
---臭氧输送装?/p>
---石英振荡?/p>
---四重质量分光讠/p>
---实时温度显示
---椭偏?/p>
---进样
暂无数据