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专业的PLD脉冲激光沉积系绞/strong>(基片尺?#934;2inch 4inch 6inch 8inch、or flexible tape)供应商,凭借多年的娴熟的经验、雄厚的研发实力和生产能力,为不同客户提供专业脉冲沉积系统方案和优质的技术服务;并且已经被众?*高校、研究所和R&D企业所采用、/p> 同时也为客户提供同类设备9/p> 大面积电子束沉积系统:沉积区?0mmx200mm,适合金属、绝缘材料和介电材料等沉积; 大面积溅射系统:沉积区域Max 75mm(W) x 310mm(L),适合金属、半导体、绝缘材料和介电材料等沉积; 小型化溅射台?#966;1inch?#966;2inch基片,价格优惠,特别适合高校研究使用:/p> 技术参数: 基片尺寸?#934;2inch 4inch 6inch 8inch、or flexible tape material applied:/p> 靶尺寸:Size 1”inch to 8inch:/p> 靶数量:up to 6pcs:/p> 基片加热 up to 900℃; 真空度:5x10-5 Pa?On request?x10-6 Pa or less) :/p> 主要特点9/strong> 靶Swing功能:/p> 激光束扫描功能:/p> 配备准分子激光器:/p> 可选功能:Load Lock Chamber RHEED分析功能 多功能系统:Comibination with Sputter gun,Electron beam、IBAD
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